Casmara Luxury Algae Peel-Off pleťová maska
Kód: 56436Detailní popis produktu
Casmara Luxury Algae Peel-Off Mask
Luxusní revitalizační a zpevňující peel-off maska s mořskými řasami, minerály a 24karátovým zlatým prachem. Pomáhá intenzivně hydratovat pleť, dodat jí vitalitu a podpořit její zářivý vzhled.
Hlavní vlastnosti
- revitalizační a zpevňující péče
- intenzivní anti-age péče
- s 24karátovým zlatým prachem
- obsahuje mořské řasy, minerály a stopové prvky
- pomáhá intenzivně hydratovat pokožku
- vhodná zejména pro zralou a mdlou pleť
- peel-off provedení pro snadné odstranění
- sada pro 2 ošetření
Obsah balení
| Značka | Casmara |
| Řada | Luxury |
| Typ | peel-off pleťová maska |
| Gel | 2 × 50 ml |
| Prášek | 2 × 18 g |
| Revitalizační krém | 1 × 4 ml |
| Příslušenství | špachtle |
Aktivní složky
Luxusní maska využívá kombinaci mořských řas, 24karátového zlatého prachu, vitaminů, minerálů a stopových prvků. Péče je zaměřena na revitalizaci, hydrataci a zpevnění pokožky.
Použití
Nejprve naneste revitalizační krém na vyčištěnou pleť. Obsah jednoho sáčku s práškem a jednoho sáčku s gelem následně důkladně smíchejte a vzniklou směs pomocí špachtle rovnoměrně naneste na obličej.
Masku je nutné nanést přibližně do 5 minut od smíchání, protože poté začíná tuhnout. Nechte působit minimálně 15 minut a následně ji opatrně stáhněte v jednom kuse shora dolů.
Složení – Luxury Algae Peel-Off Mask
Sáček 1: Glucose, Diatomaceous Earth, Calcium Sulfate, Synthetic Fluorphlogopite, Algin, CI 77891 (Titanium Dioxide), Tetrasodium Pyrophosphate, CI 77491 (Iron Oxide), CI 77480 (Gold).
Sáček 2: Aqua (Water), Algin, Phenoxyethanol, Propylene Glycol, Parfum (Fragrance), Synthetic Fluorphlogopite, Silica, Methylisothiazolinone, Limonene, CI 77491 (Iron Oxides).
Upozornění
Kosmetický přípravek určený k vnějšímu použití. Používejte podle návodu výrobce. V případě podráždění pokožky používání přerušte. Uchovávejte mimo dosah dětí.
Doplňkové parametry
| Kategorie: | Péče o tělo a vlasy |
|---|---|
| EAN: | 8436561410811 |
Diskuze
Buďte první, kdo napíše příspěvek k této položce.
